SAP003-14M(14A-13C)电浆设备_操作手册V_1.0(3)

发布时间:2021-06-10

安全注意事項1. 本設備(Si-plasma)工作中含有高達 2 萬伏特的瞬間電壓、操作中 i 電壓也高達 1 萬伏特 2. 禁止任何金屬物體或身體任何部位靠近安全門內或遠離 Plasma 設備 20cm 以上、以免發生危險。 1. 維修時、請務必先將電源關閉,控制部後方電源線拔除,並等待 20 分鐘後,才可拆下 Plasma 設備。 2. 絕對嚴禁使用氧氣來做工作氣體 3. 請先確認來源電壓無誤後再開啟電源 已免造成設備損壞(參閱 第二章、廠務規格) 1. 照射部噴嘴部分工作中會產生高溫 修 防止被燙傷 關閉電漿 20 分鐘後才可維1. 維修內部零件時必需以電表量測手與工具確定沒有累積靜電後 才可使用 2. 禁止任意更改本設備之硬體,隨意更改硬體設計或非原廠提供 之零組件可能導致設備產生干擾、損壞甚至發生危險。 3. 操作當中,禁止以手或其他導電物體靠近照射部電漿噴出口。 4. 照射部所噴出之電漿具相當程度之高溫,長時間將物體停留在電 漿噴出口可能導致溫度過高,甚至使物體燃燒。 5. 照射部所噴出電漿中含反應性非常高的自由基,操作人員應避免 長時間曝露在該氣份中。並再加設排風(氣)裝置,將廢氣排出。 6. 本設備所產生之電源頻率為 10-50kHz, 在零組件的連接都設置 了金屬軟管以隔絶與高壓電線之相互干擾。在放置本機台時,應 儘量避免訊號線及電源線靠近此金屬軟管。Creating Nano Technologies 59 Alley 21 Lane 279 Chung Cheng Road Yung Kang City Tainan TAIWAN 710 第 2 頁,共 30 頁 TEL: +886-6-2323927 FAX:+886-6-3013155 版本 1.0 URL: E-Mail: cnt.nano@ 更新日期: 2011-11-24

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