方向图测量

这里，Δ是抛物面最大制造公差。例如，最大制造公差为0.007λ 时，观察点功率变化约0.5dB。可见，对抛物面反射器的制造精度要求是苛刻的。同时，不但要控制最大公差的大小，而且还要控制公差的扩展面积。通常，正对着待测天线区那部分反射面的面积的表面公差要求严一些，反射器边缘部分的表面公差则可稍放宽些。

二、聚焦技术

聚焦技术是对聚焦于无穷远的待测天线采取措施，让其聚焦于近场，然后在焦区测取取辐射特性。在一定允许误差范围内，这种方法测得的结果，可以良好地近似聚焦于无穷远处的辐射特性。

与光学系统中的情况一样，要在有限距离处聚焦就要求天线孔径上的波前为凹球形，而不再是聚焦于无穷远处所要求的平面波前。这种凹球形波前，对相控阵而言，可以通过调整各阵元相移量来实现，对一个大型抛物面天线来说，可以将初级馈源沿其轴向适当偏焦来达到。下面，我们以抛物面天线为例，讨论聚焦技术的参量关系。

如图3﹒27所示，初级馈源精确地放于抛物面反射器焦点（馈源相位中心与反射器焦点重合）时，聚焦于无穷远，由馈源到天线孔径面内所有点的行程相等，而观察点离反射器足够远，因此，孔径内所有点到观察点的行程也近似相等，故可测得精确的方向图和增益。当聚焦于近场时，即观察点P位于近场，由孔径上各点到观察点的行程不再相等，必须采取馈源沿轴向偏移的补偿办法，才能使在近场测得的方向图趋近于远场区方向图。

图3﹒27中，旋转抛物面反射器的截面为AOA′，焦点为F，由孔径面中心O′点和边缘A点到观察点P的两路行程差是AB，它可以由下式确定

AO′+O′P=AP=(AB+BP) （3﹒34）

现设 2222

AO′=O′A′=D2 （3﹒35） O′P=BP=R

则式（3﹒34）变为

2 D +R2=(AB+R)2 （3﹒36） 2

因为AB<<R，故式（3﹒36）可以近似写为

AB≈D222R （3﹒37）

将馈源从F移到F′，以满足从馈源经A点和O′点到观察点的两路行程相等的要求，即

(F′O+OO′)=F′A+AB （3﹒38）

令焦距OF=f，偏焦值FF′=e，则

D2

OO′= （3﹒39） 16f