微洁净环境中的颗粒监测(6)

由加压 界面 传送 回至 光 七 。 滤 , 刻轨道 系统 然后 送 至一 种在 线 检铡 仪器 届砂,,后 面 观 察 到 了 明 显 的 颗 粒 活动 现 象示,。正 如 图 石所,OQ 次 记 录何 有 很 多 的颗粒 记 数 超过 在第 1 书勺i 武 在大 约 第 8 5 的 次 记 录之 后 颗 粒 活 动变 颗/。2加化不 明 显。. 3 讨 论 : 垫 圈周 边 泄 漏 . 3 3‘,过 程 工 程 学认 为 ; 在 光 刻 轨 道 运 行 时产 生 颗 粒上 利用 激光 束对 硅 片 表 面 进 行 扫推 来 检 测 硅 片 上一,是 正 常现 象。对 过 滤 器 的 进一 步 的 检 查发 现 反 向。,的缺 陷密度,砂光 刻 过 程 是 对洁 净度 要 求 最 为 苛刻 的工 艺之一 文 献 证明颗 粒租 芯片 失敛 何相 关联 度 是 由以下压 力会将颗 粒推 向过滤器 密封垫 圈周 边 一 旦 重 新 设计 能消除 泄偏的垫圈 (新的 垫圈第 肠阳 次观 察后 安装 升 进 人加压 界 面的 颗 粒数蒯良 少欢迎投 藕E 如 角 翻卜 扭引二二我 们还 观迈弓姗年, 月韵in f诊必 On lin e 名卜 的路羁 集 盛患察 到 在 泄 漏 未 被 阻 止 的 时 候 处 于 在线 硅 片扫 描n i 仪 (一h, ,,生 产 技 术的 洁 净对 减 少交 叉 污 染 很 重 要 那 么 保 持 硅 片 组 分e nw a纯r。c面 一 光 刻 机 之 后 ) 中的 硅 片 也具 有 高 得多 的 缺 陷数. 3 4 3.~;) (位 于 光 刻 轨 道 一 加 压 界。类 器 的 洁 净 也十 分 有 必 要. 4 1 试验 3.。结论在 300mm硅 片 组 分类 器 的 预 真 空 室 内安 装 一(PM S 公 司 生 产 ) 来 监 测 颗 粒.过 程工程 学 认 为峋 抑 肋台La s a i 尹 1 10。颗粒传感 器7以 10‘CF M流量在个 不 同位 置 点 同时 采 样 并0 1,对大 于 等 于进行 计数lr o微 米 的颗 粒 另一台 L a俨 as。.安 置 在 微洁 净 环境 的 中…,~,,心 部 位进 行 单 点 采样. 4 3 . 2 结果}以拍00 十且 00 0f A.:l, 6 田O、如图9 : 34 之 间,77,所示,在,9 : 巧一多点采 样检 测 到,匆钧 以扣00了 显 著 的 颗 粒计 数 而 在微 环 境 中单 点 采 样 检 测 到 的O h 邻 ry . tio n图 6 光 刻 轨 道 的 颗 粒泄 漏 豁 在 设 备 正 常运 行 时 也 会 产 生 较颗 粒数 几 乎 为 零 单 点 采 样。,高 的 颗 粒数,错 失 了 明显 的颗 粒 活 动,。: 与 此 相 反 的 是在 9 4 0 左当过 滤 系统 失效 气 流 没 有 得 到 充 分净 化 进 人 加 压界 面 的 颗粒 数就会 上 升 相 应 的 失 效芯 片数 也 上 升 ;馨 为 了 保 证 换 气 系统 能处 于 正 常 的 工 作 状 态,右 单 点 与 多 点技 术 同时检 测 到 了 一 个 较 小 的颗 粒活动。. 4. 3 3