微洁净环境中的颗粒监测

以生 产 技 术瓣微 洁 净 环 境 中 的颗 粒 监 测l 一…l一~ ~ 肠.〕 lo M姆 昌u d n g 乌 ” te 姗 ) (美 国颗 粗 侧 量 系统 公 司 Pa 八狄__、一,一,一~,、 沈健_二_1摘要2引论微 环 境 的 出 现 极 大 地 提 高 了 半 导 体 加 工 过程的洁 净 度。。微 洁 净 环 境 在 半 导 体 加 工 中 的应 用 使 得 工 艺s Q 一 级 或者 设 备 能在 极 高洁 净 度 通 常是 在 符合 I,新 的 微 环境 设 计原 理 例 如 防护 罩 正压,、强 和 机 械臂 的 应用 使 其 性能 明显 地 优 于 传统 的 设二 级 标 准 的洁 净 环 境下运 行,。尽管在 洁 净 度上 有 了。计 安 装 和 调校微洁净环 境的过 程 为精确调 试工艺 设 备 提供了 的 机会 使之 能在 15 0 一级 或 二 级 洁净,如此大 的 改 进 但工 业 界在 微 污 染控 制 方 面 的经 验显 示 仍 然 存 在 着 众 多 潜在 的 颗 粒 源、、工 艺 过 程中的度 的 环境 中开 始运 行,。任何 部 件 的运 动 摩 擦 以 及 气流 扰 动都 会 产生 和,同时 对 微 污 染 控 制 的经 验 表 明 对 一 个微 洁 净 环 境的 真 正 的 挑 战在 于 能 否 长 时 间 内保 持其高扩散 颗粒 然后 这些 颗 粒将 会 漂 移并在 静 电力 作用 下 吸 附在 硅 片表 面 上 显 著 地 降 低 了 芯 片 成 品 率,,二由于 机 械臂 需 要 调整 以 及 密封存 在 的 泄 漏 间题 高级别 的洁 净度 的维持将 是 十 分困 难 的的洁 净度任务。。当硅 片集 成 度越 来 越 高时 颗 粒活 动所 造 成 的 潜在,,成本 的影 响 就 会 越来 越大。为 此 对 如 何 观 察微洁 净 环 境 运 行 过 程 中 的 关,键 颗 粒 活 动情 况 进行 了 研 究,。颗 粒计数 器被 安置在、、多 个设 备 的 防护 罩 中 如离 子 注人 机 硅 片探 针 台 ap a 〔 光 刻 轨道 系 统 (Pho to lith 叱犷 坤 Tr 腼) 和 硅 片组 分类 器 (W a 几r5 0 二 级标 本报 告的度 量 单 位是 颖爪 , 相对 子 互 ( 准 的 微 洁净环 境 每 立 方 米少 于或 等于 1 0 个直 径 3 . 3 微 米 的颗 粒 即 近 似 为 0 . 3 5 颗/ 众 ) 等于 或 大 于 0,,,,s 时t启r总)中。3微 洁净 环境 中的 颗 粒 活 动离子 注 人 机用 于 向硅 片表 面 注 人 掺杂 离 子,所 有 这 些 常 用 设 备 的 微 洁净 环 境 中 的 颖 粒 活动 情 况都 将 被 检 测。. 1 离 子 注入 机 3。许 多 颗 粒活 动情况 都会 直 接导、该致 芯 片 的报 废、颗粒 活 动 的起 因包 括风 扇失 效 轴 承 失 效 密封垫 圈 的 泄 漏 以 及 设备正 常 操作动 作和 末 曾纪录 的 人 为 因 素 上 述类型 的 间题 在工 艺设 备,,工 艺 的关 键 是