微洁净环境中的颗粒监测(2)

真 空 室 不能存 在 其 它 杂质 离 子 不 然它们就会 与 掺杂 离 子 一 起 注人 到 硅片 中。因此 采同样 在 的颗、 ,,用 良 好 的 硅 片 装 载 系 统 和 低 气 流 扰 动 的 预真 空 室 对减 少颗 粒 向硅 片 的输运 是 十 分 重 要 的。运 行 中随时 都 会产 生在某 些 情 况 下,,。颗 粒源 处 在 微 洁 净 环 境 内 部。。预真 空 室 或 泄 漏 的 气 流 人口 也 会 产 生 有 危害,此 时 仅采 用 一个 位 于 中心 位 置 的 颗 粒 监 测 器 是 不粒。颗粒 也 可 能 在 内 部产生 例如 机械 臂的 摩擦p:够的 需 要 进行 多点采样 来 监侧颗粒 的 活动 结 论 ; 过 程 工 程学 告诉 我 们 微 洁净 环 境 系统,或硅 片 的 过度 加 热导致 光刻 胶灰化 而 产生 的烟雾类 颗粒. t , 3除 了 在 最 初 的 安装 和 调 校时要 达 到 高 的 洁净 度 外, 。,试验用 一 台 嘟 h iNE T 究 O ( PM S 公 司 生 产 ) 过 程山m还 需 进行 持 续 的过 程监 测 这 将有 利 于 提 高工 艺 设 备 的加 工 成 品 率监 测 器对 一 个 3 0一工 厂… 中运 行 的 离 子注 人 机 的,预 真 空 室 中 7 个 位 置 进行 持 续 的 取样 监 测 颗粒 传欢 迎 投稿月 m ai ! 泊5 1自 ni no 任 f @0. 马卜 成n e n c.2白 仍年 夕耳(逐必生 产 技 术) 心 集 盛患胳1 O CF M.感器 对 大 于 等 于3 1 2 结果. .. 3 微 米 直径 0。的颗 粒 以基 于 以 上 结 果 过 程 工 程学 认 为,:的 流 量进 行 采 样 和 计 数 在 第一 天 的 1 4:镰 离 子 注人 机 受 到 颗 粒 活 动 的 影 响;,肇 观 察 到 的 颗 粒 活 动 降低 了 芯 片 成 品 率 在 风30 (,l 后 有好 几 个 小时 见图 ) 的 颗 粒计 数 大 于 10 颗 / f s t 这 是 由 于 工 人 对设 备。扇 停 止 时 生 产 的 硅 片 上 可 以 观察 到 失 效 芯 片一;令 离 子注人 机需 要 持 续 的 颗 粒 监 测;进 行预 防 性 的 维 护 所 致 速 地净 化,。在 此 之 后 微 洁 净 环 境迅一,参 使 用 持 续 的 颗 粒监 测 将 显 著 地 减 少 测 试 硅。片 的数 量 最 终 将 降低 硅 片 的加 工成 本:,。颗 粒 计 数 上 升 到 初 40 0 颗 这 种情 况延续 了 6 0 小 时 在 这段 时间 的大 约 2 /。9 在第三天的 149 ,. 2 3硅 片探 针 台 硅 片 探 针 台用 来 测 量 硅 片 上 每 个 芯 片 的 电学。3 处 (约 在 第 五 天 的,0 1,:35 ),观 察 到 了 一 个颗 粒 零,性能有 图形 的 硅 片 从,FO U P中出 来 进 人 具 有 正 压。,计 数 的 状 态 这 是 因 为 工 艺 工 程 师 对 颗粒 计 数 器 进行 了 一 个 零计 数 测 试 在 第六 天 的 10 : 0 5力 的 预 真 空 室 然 后 被 送