电压施加方式在阳极氧化钛薄膜形成过程中的作
时间:2025-04-03
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不错的论文
第58卷第12期2007年12月
化
Journal
of
ChemicaI
工
Industry
学
and
报
Engineering
(china)
V01.58No.12
2007
December
电压施加方式在阳极氧化钛薄膜
形成过程中的作用
巩运兰1,任云霞1,杨
云1,白正晨1,郭鹤桐2
(1天津商业大学生物技术与食品科学学院,天津300134;2天津大学化工学院,天津300072)
摘要:采用阳极氧化的方法,通过改变电压的施加方式制备了具有不同形貌的氧化钛薄膜。使用扫描电子显微镜考察了氧化钛薄膜的形貌,结合实验现象探讨了阳极氧化钛薄膜纳米孔的形成机制。研究结果表明,采用一步施加电压和连续施加电压的方法,氧化钛薄膜纳米孔的形成过程由电压、阻挡层的厚度决定;采用两步施加电压的方法,氧化钛薄膜纳米孑L的形成过程由放电电压、阻挡层的厚度和阻挡层/电解液的边界条件协同控制。在相同工艺条件下,采用两步施加电压法能够扩展阳极氧化钛薄膜纳米孔孔径和孔密度的范围。关键词:电压;阳极氧化;氧化钛薄膜;纳米孑L;两步施加电压法中图分类号:TQ
153.6;TG146
文献标识码:A文章编号:0438—1157(2007)12—3185一06
EffectOfpatternofappliedVoltage
ofanodicTi02porous
on
formation
films
2
GONGYunlan1,RENYunxia1-YANGYunl-BAIZhengchenl。GUoHetong
(1
co肌邸D厂Bio£P以nofo删口行d
2
F00dSfiF咒cP,
n明iin阮i化rmyo厂com胱础,n口巧砌300134,吼inn;
Sf^ooZ
o,C,le7”ic口ZEngi以PPri咒g,11口起歹i咒L硫iz圯r5i£y,丁I口,巧i行300072,C^i超n)
Abstract:
Ti02porousf订mswerepreparedbyanodizationwithdifferentpatternsofappliedvoltage.
porous
The
formationmechanismofTi02
observation.VoItage,
filmswasdiscussed
through
experimentphenomena
andSEM
TheresultsshowedthattheformationofTi02porousfilmsbyanodizationwascontronedby
thicknesswhenone—stepvoltage
barriermethod
or
continuous
voltage
methodwasapp“ed.
state
However,theformationwascontrolledbyvoltage,bar“erthickness,andinterfacebarrierwhentwo—stepvoltagemethodwasused.
ofelectrolyte/
Therangeofnano—porediameterandnano—poredensityof
theTi02filmcouldbeextendedwithtwo—stepv01tagemethodinthesameprocesscondition.Keywords:
voltage;anodicoxidation;Ti02film;nano—pore;
two—stepvoltage
引言
纳米TiO:薄膜材料克服了Tioz粉体易失活、
扩展了Ti0。光催化材料的应用领域,更具有实际应用价值。纳米TiO。薄膜的制备方法很多,如溶胶一凝胶法、反应溅射、化学气相沉积方法n21。这些方法普遍存在膜基结合力差、制备成本高、制备
易团聚、活性成分难以回收再利用等缺点,极大地
2007一06一01收到初稿,2007一08—22收到修改稿。联系人及第一作者:巩运兰(1963一),女,副教授。基金项目:天津市自然科学基金项目(06YFJMJCll400)。
Rec亡ived
date:2007一06一01.
GONG
Yunlan,
associate
Com砷ondi呜author:
professor.
E一啦il:gylan@tjcu.ed
Fo咖dati蚰it哪:
u.cn
supportedby
theNaturalScienceFoundation
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