无卤化管控方式点关注行业焦点, 关注行业焦点 直接控制 特定的卤素化合物。 特定的卤素化合物。面从卤素化合物的共性入手， 从卤素化合物的共性入手， 控制特定卤族元素, 控制特定卤族元素 以期实现 全面无卤化的目标。 全面无卤化的目标。SGS-CSTC EET RSTS31无卤化“面 控方式 无卤化 面”控方式工业无卤化标准(1)JPCA (日本电子电路工业会 Electronics Packaging and Circuits Association ) 日本电子电路工业会, 日本电子电路工业会 – JPCA-ES-01-2003 确定了“无卤 无卤“的定义和标准 确定了 无卤 的定义和标准 Br/Cl < 0.09wt% (900 ppm) Br+Cl < 0.15wt% (1500 ppm) IEC (国际电工委员会 International Electrotechnical Commission) 国际电工委员会, 国际电工委员会 – IEC 61249-2-21 2003 Br/Cl< 0.09% (900ppm) Br+Cl < 0.15% (1500ppm) IPC (美国电子工业联接协会 Interconnecting and Packaging Electronic Circuits) 美国电子工业联接协会, 美国电子工业联接协会 采纳IEC对于 无卤 的定义和要求 对于“无卤 – IPC - 4101B 采纳 对于 无卤”的定义和要求 Br/Cl< 0.09% (900ppm) Br+Cl < 0.15% (1500ppm)在工业界中“无卤 的要求并不限制氟 族的其他卤素) 在工业界中 无卤”的要求并不限制氟 碘, 和砹 (第7族的其他卤素 无卤 的要求并不限制氟, 第 族的其他卤素SGS-CSTC EET RSTS3216