基本薄膜材料总汇(8)

名称:M1

名称:M2

名称:M3

名称:H5

名称:氧化钽(Ta2O5)

名称:WR--1

名称:WR--2

名称:WR--3

名称:L--5

名称

:锥冰晶石(Na5AL3F14)

默克公司研制的一系列的混合膜料

H1 高折射率：2.1---2.15 适用于防反膜和眼镜膜 H2 高折射率: 2.1—2.15 适用于防反膜和眼镜膜

H4 高折射率: 2.1—2.15 适用于防反膜和滤光片膜眼镜膜

M1 中折射率: 1.65—1.7 适用于防反膜和偏光膜

H1,H2,H4可用作来生产高折射率的膜层,在250摄氏度的基底上,2.1—2.15的折射率共有同次性.M1可用来生产中折射率的膜层.H1,H4和M1也能镀在未加热的基底上,折射率会下降.

2, H1在可见光到紫外波段内有相当高的透过率,在360NM左右有吸收,同ZRO2一样无法从溶解状态下被蒸发较为均匀的膜层. 3

H2在可见光波段内有很高的透过率,但在380NM时有截止吸收,这意味着镀膜条件不理想时1/2光学厚度的存在吸收.H2优点在于它能从溶解状态下被蒸发,因此有良好的同次性和均匀的膜厚.

4, H4在可见光波段内有很高的透过率,象H1 一样在360NM左右有吸收,它也能从溶解状态下被子蒸发,具有良好的同次性.

5. M1在从近红外到近紫外的波段内有很好的透过率, 300NM时有吸收,它也能从溶解的状态下被子蒸发,具有良好的同次性和物质,适合于是高折射率的基底上镀增透膜.

在塑料基底上镀膜因为无法加热基底,所以在膜料的选择上倍加小心,以确保它能在低温下形成稳定膜层,由于温度偏低折射率也随之降低,相应的膜层设计也应改变.

MGF2不能在低温下被子蒸镀,因为只有200摄氏度以上温度时它才能形成稳定的薄膜,因此