基本薄膜材料总汇(6)

Hass等人研究GeF3，他们使用高密度的钨舟蒸发发现在500NM时N=1.63,并且机械强度和化学强度令人满意,他们指出在234NM和248NM的吸收最大,而在波长大过300NM时吸收可以忽略.FUJIWARA用钼舟蒸发CEF3和CEO2混合物,得到一个1.60---2.13的合乎需要的具有合理重复性的折射率,他指出该材料的机械强度和化学强度都令人满意.

名称:氟化钙(CaF2)

CaF2是Heavens提出来的，它可以在10-4以上的压力下蒸发获得一个约为1。23---1。28的折射率。可是他说最终的膜层不那么令人满意，在室温下蒸着氟化钙其堆积密度大约为0.57,这与Ennos给出的疏散折射率1.435相吻合,这说明该材料不耐用并容易随温度变化而变化.原有的高拉应力随膜厚增大而降低,膜厚增大导致大量的可见光散射.可以用钨钽舟钼舟蒸发而且会升华,在红外线中其穿透性超过12000nm,它没有完全的致密性似乎是目前其利用受到限制的原因,随着IAD蒸着氟化物条件的改善这种材料的使用前景更为广阔.

名称:氟化钡(BaF2)

与氟化钙具有相似的物理特性,在室温下蒸镀氟化钡,使用较低的蒸着速度时材料的堆积密度为0.66,并且密度变化与蒸着速度增大几乎成正比,在速度为20NM/S堆积密度高达0.83,它的局限性又是它缺乏完全致密性.透过性在高温时移到更长的波长,所以目前它只能用在红外

膜.

名称:氟化铅(PbF2)

氟化铅在UV中可用作高折射率材料,在300nm时N=1.998,该材料与钼钽,钨舟接触时折射率将降低,因此需要用铂或陶瓷皿.Ennos指出氟化铅具有相对较低的应力,开始是压力,随着膜厚度的增加张力明显增大,但这与蒸着速度无关

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名称:铬(Cr)

铬有时用在分光镜上并且通常用作”胶质层”来增强附着力,胶质层可能在5—50NM的范围内,但在铝镜膜导下面,30NM是增强附着力的有效值.颗粒状可用钨舟蒸发而块状宜用电子枪来蒸发,该材料升华,但是表面氧化物可以防止它蒸发/升华,可以全用铬电镀钨丝.可以用铬作为胶质层对金镜化合物进行韧性处理,也可在塑料上使用铬作为胶质层.也可使用一个螺旋状的钨丝蒸发.它应该是所有材料中具有最高拉应力的材料.