第1章模拟电子技术课件
发布时间:2024-08-27
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第一章 半导体器件基础1.1 半导体的基本知识 1.2 半导体二极管 1.3 半导体三极管 1.4 场效应管
§1.1 半导体基础知识一、本征半导体 二、杂质半导体 三、PN结的形成及其单向导电性 四、PN结的电容效应
1.1 半导体的基本知识半导体的基本概念: 在物理学中。根据材料的导电能力,可以 将他们划分导体、绝缘体和半导体。 导体:电阻率小于10-4 cm的物质称为导体。 绝缘体:电阻率大于109 cm的物质称为绝缘体 半导体:电阻率介于导体与绝缘体之间的物质。
半导体两个重要的特点 1.当半导体在光照或温度升高的条件下, 其导电能力会产生明显变化。 2.在纯净的半导体中掺入微量杂质以后, 其导电能力会明显升高。
典型的半导体是硅Si和锗Ge,它们都是4价元素。
si
Ge Ge
+4 +4
硅原子
锗原子
硅和锗最外层轨道上的 四个电子称为价电子。
1.1.2晶体中的价电子与共价键
一. 本征半导体本征半导体——化学成分纯净的半导体晶体。 制造半导体器件的半导体材料的纯度要达到99.9999999%,常 称为“九个9”。 本征半导体的共价键结构
+4
+4
+4
+4
+4
+4
+4
+4束缚电子
+4
在绝对温度T=0K时, 所有的价电子都被共价键 紧紧束缚在共价键中,不 会成为自由电子,因此本 征半导体的导电能力很弱 ,接近绝缘体。
+4
+4
+4
当温度升高或受到 光的照射时,束缚 电子能量增高,有 的电子可以挣脱原 子核的束缚,而参 与导电,成为自由
+4空穴
+4
+4自由电子
+4
+4
+4
电子。 自由电子产生的 同时,在其原来的共 价键中就出现了一个 空位,称为空穴。
这一现象称为本征激发,也称热激发。
可见本征激发同时产生
+4
+4
+4
电子空穴对。 外加能量越高(温度 越高),产生的电子空 穴对越多。与本征激发相反的 现象——复合 在一定温度下,本征激 发和复合同时进行,达 到动态平衡。电子空穴 对的浓度一定。
+4空穴
+4自由电子
+4
+4电子空穴对
+4
+4
常温300K时: 1.4 1010 3 硅: cm 电子空穴对的浓度2 锗:.5 1013
cm3
-
E+4 +4 +4
+自由电子
导电机制
+4
+4
+4
+4
+4
+4
载流子
自由电子 空穴
带负电荷 带正电荷
电子流
+总电流 空穴流
本征半导体的导电性取决于外加能量:
温度变化,导电性变化;光照变化,导电性变化。
二. 杂质半导体在本征半导体中掺入某些微量杂质元素后的 半导体称为杂质半导体。
1. N型半导体在本征半导体中掺入五价杂质元素,例 如磷,砷等,称为N型半导体。
N型半导体硅原子 多余电子
+4
+4
+4
电子空穴对
自由电子
N型半导体
+4磷原子
+5
+4
+ +
+ + +
+ + +
+ + +施主离子
+4
+4
+4
+
多数载流子——自由电子 少数载流子—— 空穴
2. P型半导体在本征半导体中掺入三价杂质元素,如硼、镓等。硅原子 电子空穴对 空穴
+4空穴
+4
+4-
P型半导体 - - - - - - - -
+4硼原子
+3
+4
- -
- 受主离子
+4
+4
+4
多数载流子—— 空穴 少数载流子——自由电子
杂质半导体的示意图多子—空穴P型半导体
多子—电子
N型半导体-- -
-- - 少子—电子
- - -
- - -
++ +
++ +
+ + +
+ + +
少子—空穴 少子浓度——与温度有关 多子浓度——与温度无关
三. PN结及其单向导电性1 . PN结的形成PN结合 因多子浓度差 多子的扩散 空间电荷区
形成内电场 阻止多子扩散,促使少子漂移。 内电场E P型半导体 空间电荷区 N型半导体
- - -
- - -
- - -
- - -
+ + +耗尽层
+ + +
+ + +
+ + +
少子漂移电流
多子扩散电流
补充耗尽层失去的多子,耗尽层窄,E 少子飘移 又失去多子,耗尽层宽,E 多子扩散
内电场E
P型半导体 耗尽层 - - - - - - - - - - - - + + +
N型半导体 + + + + + + + + +
多子扩散电流 少子漂移电流
动态平衡: 扩散电流 = 漂移电流 势垒 UO硅 0.5V 锗 0.1V
总电流=0
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