材料表面与界面
发布时间:2021-06-11
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材料表面与界面
《材料表面与界面》Surface and Interface in Materials授课对象: 开课单位:
硕 士 研 究生 材 料 学 院
材料表面与界面
课程编号: 0831001203a 课程学分: 2学分
教学方式:适用专业:
讲授、研讨、自学材料学、材料加工工程、 材料物理化学、生物医学工程
教学要求与目的:掌握目前关于材料表面与界面 结构与性质的基本理论;掌握近代材料表面改性 与分析的基本方法;了解材料表面与界面的研究
动向。
材料表面与界面
课程主要内容:一、材料表面与界面的结构 二、材料表面振动
三、材料表面电子态(金属、半导体)四、材料表面吸附 五、薄膜与非晶的表面与界面特性 六、外来粒子与表面的相互作用 七、材料表面与界面的分析方法
材料表面与界面
课程教材及主要参考书:1、孙大明等编著,固体的表面与界面,安徽教育出版社,19962、朱履冰主编,表面与界面物理,天津大学出版社,1992
3、李恒德,肖纪美,材料表面与界面,清华大学出版社,1990
材料表面与界面
第一部分 材料表面与界面的结构1.1 固体的表面一、理想表面 表面理论上结构完整的二维点阵平面。理论前提: 1、不考虑晶体内部周期性势场在晶体表面 d 中断的影响;
内部
2、不考虑表面原子的热运动、热扩散、热 缺陷等;3、不考虑外界对表面的物理-化学作用等;
理想表面示意图
4、认为体内原子的位置与结构是无限周期 性的,则表面原子的位置与结构是半无限 的,与体内完全一样。
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二、清洁表面
不存在任何吸附、催化反应、杂质扩散等物理 -化学效应的表面。
(表面的化学组成与体内相同,但结构可以不同于体内) 清洁表面可分为三种: 台阶表面、弛豫表面 、重构表面
1、台阶表面 --- 表面不是平面,由规则或不规则台阶组成。晶面1(平面)
晶面2(立面)
晶面3 (连接面)
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2、弛豫表面 --- 指表面层之间以及表面和体内原子层之间的垂直间距 ds和体内原子层间距 d0相比有所膨胀和压缩的现象。
可能涉及几个原子层。
表面ds
d0
内部
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3、重构表面 --- 指表面原子层在水平方向上的周期性不同于体内, 但在垂直方向上的层间间距d0与体内相同。
表面d0
内部
d0
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三、吸附表面
在清洁表面上有来自体内扩散到表面的杂质和来自 表面周围空间吸附在表面上的质点所构成的表面。
吸附表面可分为四种吸附位置: 顶吸附、桥吸附 、填充吸附、中心吸附
俯视图
填充吸附剖面图
中心吸附
顶吸附
桥吸附
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四、表面自由能在建立新表面时,邻近原子将丢失,键被切断,因
此,必须对系统作功;同样,在一定温度和压力下,并保持平衡条件,若 增加表面能,系统也必须作功。
对所有单组分的系统
,表面总的自由能改变为:
dG SdT Vdp dAG---表面自由能; S---熵; V---体积; p---压力; ---表面张力; T---温度 A---表面积
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五、表面偏析杂质由体内偏析到表面,使多组分材料体系的表面组成 与体内不同。
将偏析与表面张力联系起来: (1) 若 2< 1, 表面张力较小的组分将在表面上偏析(富集); (2) 若 2= 1, 不存在表面偏析。
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1.2 表面二维结构平面 二维 格点阵列
格点 格点可以是一个原子(即
Bravais[布喇菲]格子);格点也可以是原子团; 二维格子中任意格点的位矢:
二维格子示意图
T na mb a 、b 为二维格子的基矢。
也是原胞的两条边。
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二维格子的数目是有限的,实际上只有5种Bravais格子,即 斜形、方形、六角形、矩形以及中心矩形,其基矢如下:
名 称斜形 方形 六角形 矩形 中心矩形
格子符号P P P P C
基矢关系a b, 90°,任 意 a=b, =90° a=b, =120° a b, =90° a b, =90°
晶 系斜形 正方 六角 矩形 矩形
二维Miller指数 Miller指数标记二维晶格中平行晶列的各种取向。如(hk) 注意与晶面指数的区别。?
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表面结构命名法
Wood命名法 2×2 矩阵命名法
自学
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1.3 常见的表面结构目前已确定有100多种表面结构。以下主要介绍金属表面结 构、半导体表面结构、氧化物表面结构以及薄膜表面结构。
一、金属表面结构清洁的金属表面,低能电子衍射(LEED)研究表明具有如下特点: 1、其Miller指数面的表面单胞多为(1 × 1)结构; 2、表面单胞与体内单胞在表面的投影相等; 3、表面键长与体内键长相近;
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4、垂直于表面的最上层与第二层的间距接近于体内的值,变动
小于5%。一些(较少)非紧密堆积的晶面,约有5% - 15%的缩短; 5、非紧密堆积的原子比紧密堆积的原子更趋向于松弛; 6、有些晶面上吸附原子后,表面和体内的键长差别减小甚至消 失(可能是表面断裂的键由于吸附杂质原子而获得恢复)。
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二、半导体表面结构清洁的半导体表面,具有如下特点: 1、表面普遍发生重构现象; 2、半导体表面结构具有各自稳定性的温度范围,温度太 高或太低,表面会从一种结构转变为另一种结构;
实例1:Si(111)面附近劈裂面在不同温度下实时转变状态的 STM图像;….. 实例2:GaAs在(100)、(111)、(111)极性表面有大量重 构发生,在(110)非极性表面未发现重构现象。
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三、氧化物表面结构
对于氧化物表面,一般都出现重构现象,主要原因是非化学计量的诱导和氧化态变化造成的。
实例:氧化态TiO2,表面吸氧或脱氧,变成 Ti2O3、 TiO等 …..
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四、薄膜表面结构对于薄膜
表面,交换着原子、离子、电子、光子以及其它粒
子,并决定薄膜一系列的光学、电学、磁学、力学、生物学等性质。对于薄膜表面结构,受到如下因素的影响: 1、薄膜制备过程中的各种条件;
2、基底材料种类与晶面;3、薄膜与基底之间的界面。 所以,薄膜表面结构非常复杂。 实例:从金属薄膜的电子衍射花样(薄膜厚度不同可以有弥散 环、择优取向清锐环以及无择优取向清锐环等)、STM图像或
AFM图像等可说明。
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1.4 固体的界面界面:两相之间的接触面。如相界面、内界面、晶界等。
一、界面类型平移界面从晶体学角度: 界面类型 孪晶界面 反演界面 气固界面
从实用角度:
半导体界面薄膜界面 超晶格界面
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1、平移界面
A.P.B R
SF R
在结构相同的晶体中,一部分相对于另一部分平滑移动一个位 移矢量 R。其间的界面称为平移界面。
A.P.B --- R 等于点阵矢量,称反相界面;SF ---
R
不等于点阵矢量,称层错。
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