电子级多晶硅的生产工艺

多晶硅相关文献

2000年12月第

2卷第12期

中国工程科学Dec12000Vol12No112

院士论坛

电子级多晶硅的生产工艺

梁骏吾

(中国科学院半导体研究所,北京　100083)

[摘要]　就建设1000t烷法生产的多晶硅质量、安全性、、一次转换率、生长温度、电耗和价格进行了对比;、流床反应器和自由空间反应器也进行了比较。。第三代多晶硅流程适于1000t/a级的电子级多晶硅生产。

多晶硅;三氯氢硅法;硅烷法;流程;生产[关键词]　

　　笔者在文献[1]中讨论了电子级多晶硅的需求,世界及中国电子级多晶硅的生产能力,市场竞

争形势,多晶硅的体纯度和表面纯度以及生产成本。提出了占领市场必须具备的质量标准,能源消耗和材料消耗指标以及最终生产成本。

本文将进一步讨论目前电子级多晶硅的各种关键技术和这些技术对比,从而提出在建设我国1000t电子级多晶硅工厂的技术建议。

材料是经过了几代的改进,淘汰了许多工厂。只有那些掌握了大规模生产技术和亚ppb级纯度多晶工艺的12家工厂在竞争中生存下来并且发展壮大。112　世界和中国多晶硅技术的比较

世界多晶硅的生产技术以SiHCl3法为主,并已进入第三代闭环大生产。我国的生产也用SiH2Cl3,但尚处于第一代小规模生产,第三代闭环技术尚处于100t的试验阶段。我国生产能力约100t/a,而国外工厂如德山曹达为4000t/a,Wacker为4200t/a,Hemlock为6200t/a[2],差距甚大。从生产多晶硅的反应器来看,我国只有小型钟罩式,国外钟罩式反应器直径已达3m,并且还有流床反应器和自由空间反应器,大大提高了生产效率。我国尚未开展后两者的研究。国外有完善的回收系统,生产成本低,氢耗、氯耗、硅耗、电耗均优于国内。一般直拉硅用多晶有相当数量由国外进口,区熔用特别高纯多晶硅原料更依赖进口。我国多晶硅的质量和成本均落后于先进水平,因此未来的我国大型电子级多晶硅厂必需采用世界先进技术。

1　多晶硅技术的特殊性及我国的差距

111　多晶硅技术的特殊性

电子级多晶硅的发展经历了将近50年的历程。各国都在十分保密的情况下发展各自的技术。国外有人说参观一个多晶硅工厂甚至比参观一个核工厂还要难,可见其保密性之严。电子级多晶硅的特点是高纯和量大,其纯度已达很高级别:受主杂质的原子分数仅为5×10-11,施主杂质的原子分数为15×10-11(国外的习惯表示法分别为50ppt和150ppt)。其生产能力于1965年达30t/a,1988年上升到5500t/a,2000年已达到26000t/a,这在凝聚态物质中是首屈一指的。生产如此大量的超纯

[收稿日期]　2000-09-19;修回日期　2000-10-23

[作者简介]　梁骏吾(1933-),男,湖北武汉市人,中国工程院院士,中国科学院半导体研究所研究员

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第12期梁骏吾:电子级多晶硅的生产工艺35　

2　主要的多晶硅生产技术选择

经过数十年的研究和生产实践,许多方法被淘汰,如以Ca,Mg或Al还原SiO4;Zn,Al或Mg还原SiCl2法等;剩下的是硅烷分解法和氯硅烷还原法。下面我们讨论这几种方法的优劣[3]。211　SiCl4法

氯硅烷中以SiCl4法应用较早,所得到的多晶硅纯度也很好,但是生长速率较低(4～6μm/min),一次转换效率只有2%～10%,还原温度高(1200℃),能耗高达250kW h/kg,虽然有纯度高安全性高的优点,但产量低。早期如我国605厂和丹麦Topsil工厂使用过,产量小,不适于1级大工厂的硅源。目前SiCl4片。212　SiH2Cl2法

SiH2Cl2,但一般报道只有～100Ω cm,生长温度为1000℃,其能耗在氯硅烷中较低,只有90kW h/kg。与SiHCl3相比有以下缺点:它较易在反应壁上沉淀,硅棒上和管壁上沉积的比例为100∶1,仅为SiHCl3法的1%;易爆,而且还产生硅粉,一次转换率只有17%,也比SiHCl3法略低;最致命的缺点是SiH2Cl2危险性极高,易燃易爆,且爆炸性极强,与空气混合后在很宽的范围内均可以爆炸,被认为比SiH4还要危险,所以也不适合作多晶硅生产。213　SiH4法

我国过去对硅烷法有研究,也建立了小型工厂,但使用的是陈旧的Mg2Si与NH4Cl反应(在NH3中)方法。此方法成本高,已不采用。用钠和四氟化硅或氢化钠和四氟化硅也可以制备硅烷,但是成本也较高。适于大规模生产电子级多晶硅用的硅烷是以冶金级硅与SiCl4逐步反应而得。此方法由UnionCarbide公司发展并且在大规模生产中得到应用,制备1kg硅烷的价格约为8～14美元。

硅烷生长的多晶硅电阻率可高达2000Ω cm(用石英钟罩反应器)。硅烷易爆炸,国外就发生过硅烷工厂强烈爆炸的事故。

现代硅烷法的制备方法是由SiCl4逐步氢化:SiCl4与硅、氢在3155MPa和500℃下首先生成Si2HCl3,再经分馏/再分配反应生成SiH2Cl2,并在再

率分别为20%～2215%,916%及14%,每一步转

换效率都比较低,所以物料要多次循环。整个过程要加热和冷却,再加热再冷却,消耗能量比较高。硅棒上沉积速率与反应器上沉积速率之比为10∶1,仅为SiHCl3法的1/10。特别要指出,SiH4分解时容易在气相成核。所以在反应室内生成硅的粉尘,损失达10%～20%,使硅烷法沉积速率仅为3～8μm/min。硅烷分解时温度只需800℃,所以电耗仅为40kW h/kg,但由于硅烷制造成本高,故最终的多晶硅制造成本比SiHCl3。用钟罩式反应器生长4,加上SiH4的多晶硅。214　SiHCl3法

SiHCl3法是当今生产电子级多晶硅的主流技术[4],其纯度可达N型2000Ω cm,生产历史已有35年。实践证明 …… 此处隐藏：6407字，全部文档内容请下载后查看。喜欢就下载吧 ……