太阳能电池生产线中新型等离子体刻蚀机刻蚀工艺探讨

时间:2025-07-09

主要介绍太阳能电池生产线中新型等离子体刻蚀机刻蚀工艺

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电子工业毫用设备

光刻与刻蚀

太阳能电池生产线中新型等离子体刻蚀机刻蚀工艺探讨陈特超马度 ,巴布 2李健志毛朝斌 ,f .国电子科技集团公司第四十八研究所 .南长沙 4 0 1 1中湖 11 1

2 UA ua a h n能源公司, . E F ji hI a r s印度1 摘要:绍了一种新型等离子体刻蚀机的使用条件,过对各种参数变化的组合实验,到了介通得最佳工艺数据。,用该刻蚀机生产的电池片刻蚀效果好,蚀后经检测, f i 4刻电池片漏电流小,并联电阻大,高了电池片的综合性能指标。提

关键词:离子体,等刻蚀,艺,工实验

中图分类号: M9 05 T 1.

文献标识码: A

文章编号:0 44 0 (0 0 .0 50 10—5 72 1) 60 0 .3 1

S l r CelPr d to Li e i t e Ne Te h l g f oa l o uc i n n n h w c no o y oPl s a Et hi a hi a m c ng M c neCHEN c o Te ha,M a hu Ba, i n hi MA O a b n d bu LIJa z, Ch o i

( . h 8hR s ac s tt o E C, h n s a 4 0 1 1 T e4 t e erh I tu e f T C a g h 1 1; n i C 1

2 Mi oo t n t n l LF E, da ) . c slne ai a L Z I i r I r o n n

Absr c:Thi ri l n r u e e tpe o a m a e c ng ma h n’ c ndton fus t r u h a ta t sa tc e i tod c sa n w y fpl s thi c i eS o ii s o e,h o g c m b n to fva i u x e i e t lpa a ee si h d o an t e o tmum t .M a e u e oft e e c o i a i n o ro se p rm n a r m t r t a bti h p i daa k s th— h i c ne p o uc i fb te y sie c r o i n mo e tha o fe t t h d b h x rme t ng ma hi r d ton o a tr lc o r so m n s g od e f c,

e c e y t e e pe i n,

b t r l e la a e c re ta e l s, h n e it n e a e h g n t mp o e t e g n r lp ro m a c at y si e k g u r n r e s s u t ss c r i h a d i i r v h e e a e f r n e e c r ao e b te lc ft a tr sie. h y Ke ywo ds r:Pl s;Et h n a ma c i g;P o e s Ex e i nt r c s; p rme

当石油、炭、燃气等不可再生能源频频告煤天

电池制造技术不断改进以及新的光 .电转换装置的发明。以预见,阳能电池将是太阳辐射能利可太

急,能源问题日益成为制约社会经济发展的瓶颈时,来越多的国家开始实行“越阳光计划”开发太,阳能资源,求经济发展的新动力。国对环境的寻各保护和对再生清洁能源的巨大需求,促使太阳能收稿日期: 0 1 52 2 1——4 0

用的一种比较切实可行的方法,可为人类未来大规模地利用太阳能开辟广阔的前景…。晶体硅太阳能电池工艺中的等离子体刻蚀是将硅片周边的

主要介绍太阳能电池生产线中新型等离子体刻蚀机刻蚀工艺

扩散层去除,硅片两面形成 P结。硅片周边的使 N

效果。最后待电池片完成全部工艺生产工序后进行综合参数测试,检测并联电阻的人小/艾分们情况,据合格要求判定刻蚀效果。根表 1不同功率参数的实验效果

扩散层去除干净与否,可由太阳能电池的漏电流和并联电阻来表征。等离子体刻蚀技术已成为实现此工艺的首选。现有设备的基础上优化工艺,在 提升光伏电池性能己成为一种新的精细技术。

送气量工。艺压。良 J/ P序号 ( F O ) J乙雎 C J 2 a

/。n m i m一 L一

工艺时射频功

。十南‘。I漏流” ,电?20 20 2O 20 20 65 0 7 00 70 5 O.~0. 2 9

.

1设备及条件本工艺研究是在阿联酋 F ii h酋长国 Mi ua a r . coo公司进行,设备为中国电子科技集团公司 rs l第四十八研究所研制的新一代等离子体刻蚀

机,该设备采用 I P技术,配备国际领先水平的 R C F

3 0/ 2 40

4040

30 0 2/ 43 0/ 2 40 3 0/ 0 2 4 3/0 20 4

0.~0. 1 3 0~0. l 2 0.~0. 1 40.~0. 2 8

40 404 0

80 0 85 0

电源及干式真空泵,大提高了设备的可靠性。大与

表 2不同工艺气体用量的实验效果

国内现在普遍使用的第一代刻蚀机相比,它的产能大,故障率低,用、使维护费用低,适合于大规更模工艺生产使用。设备原理图如图 12 _。 l统1 2

,2/0 40 4 28/ 0 043/0 20 4

.

艺时射频功 W f/ i ̄(F/ ̄ mn] R )20 2O2 0

流1

/ A m 0.~0. 2 9 0.~0. 1 40.~O 2 1

2 3

75 0 75 O 75 0

3 45 6 7 8 9

36/ 0 0 4

20 20 2 0 2 0 2O 2O 2 0 2 0 2 0

75 0 75 075 0

0.~0. 1 3 0.~0. 2 8 O. 2~O. 80. 2~0. 6 O. 2~0. 4 0 2~0. 9

4 04 0/03/0 20 2

3/0 20 3 3/0 20 5 3/0 20 6 3/5 20 6 3/0 60 5 3/0 60 6

∞∞∞∞∞∞∞

75 075 O 75 0 75 0 75 O 75 0

∞∞

1 0 1 l 1 2

0. 2~O. 90.~0. 1 2

0.~O. 1 2

图 1设备原理图

表 3不同工艺时间的实验效果

2工艺及实验Mirsl司是 U coo公 AE首家太阳能电池片生产企业,目前主要生产 10mm×1 0mm方片单晶硅 5 5

时射流 f/ i ̄ (/ ̄ rn a R) F W/ A m1 9 22 7 50 7 50 O. 2~0. 8

3/ 6060

3 06 6/0 3 06 6/0 3 06 6/0 3 06 6/0 3 06 6/0 3 06 6/03/0 60 6

0.~0. 1 3

2 528 3 2 35

75 0 7 507 50

0 1 0. .~ 2O.~O.

1 2 0. 1

太阳能电池片。本工艺实验采用 10mi×10mm 5 l 5 l

方片,批刻蚀数量 8 0片。实验分几批进行,每 0分别采用改变功率、变气体用量、改改变工艺时间、

75 0 75 075 0

0. 1 0. 10. 1

改变工艺压力等方法进行。测试采用抽检和全部检验相结合,蚀完成后先抽检 5片,片抽取方刻样法为:上面的第二片和最下面的第二片,问的最中

4555

3 06 6/0

6 5

75 0

0. 1

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