第一章 绪论,电子,器件

时间:2025-02-24

半导体器件工艺原理制作、主讲:李佳

课程内容:随着半导体芯片加工水平的不 断提高,芯片的最小线宽在不断减小,工 艺的提高导致了具有更高集成度和可靠性 的集成电路的产生,从而推动了电子工业 的革命。半导体器件工艺介绍了芯片制造 工艺的基本流程,其中包括晶体生长技术、 硅的氧化技术、光刻和刻蚀技术、半导体 掺杂的主要技术、各种薄层淀积,最后介 绍了集成电路制造流程中的一些关键问题: 钝化、隔离和化学清洗。

第一章 半导体产业介绍 概述在20世纪,我们可以看到从机械技术派生出的 产品已经发展到现在的集中电子技术产品。比如 说,从磁带播放机到数字CD机,到现在的MP3, MP4,MP5 ;汽车的控制系统越来越智能化人性化; 电脑更是在社会普及,我们现在无论是工作还是 学习或者是生活中根本离不开电脑,它在各个方 面起着作用。那么这些电子产品的不断更新换代, 正是不断发展的电子技术所导致的必然结果。

半导体产业正是这场技术革命的中心。主要 建筑材料—半导体—是贯穿整个电子产品的要素。 半导体产品是由具有不同技术技巧的人们制造的: 比如说根据客户需要创造新设计的设计师,根据 设备和工艺要求而改善性能的工程师以及在自动 化工厂制造半导体产品的技师。总体的趋势就是 增长着的半导体市场不断要求以更低的成本获得 更好的性能。

本章学习的目标: 1.了解目前的经济状态和半导体产业的技术基础 2.了解芯片制造一些术语 3.知道什么是集成电路和分立器件,以及之间的区别 4.了解半导体工艺的基本步骤 5.清楚半导体产业的发展趋势

1.1 半导体工业的诞生 专业术语 硅片:制造电子器件的基本半导体材料, 圆形单晶薄片 芯片:在硅片制造厂,由硅片生产的半导 体产品 晶圆:多指单晶硅圆片,由普通硅沙拉制 提炼而成,按其直径分为4英寸、5英寸、6 英寸、 8英寸,12英寸甚至更大规格。

前后工序:IC制造过程被称为前工序, 是最要 害的技术;流片后,其切割、 封装等工序被 称为后工序 线宽:是指IC工艺可达到的最小导线宽度,是 IC工艺先进水平的主要指标 封装:指把硅片上的电路管脚,用导线接引到 外部接头处,以便与其它器件连接

芯片制造:通过一定的工艺技术将一些元器件(晶体 管、电阻、电容等)制作在一块晶片上, 完成一定功能的电子器件,制作十分精 细,复杂,它的发展与其它科技(材料科 学、计算机科学、通讯科学、宇航学)紧 密联系在一起。

电信号处理工业始于上个世纪初的真空管,真空 管具有开关和放大功能,它使得收音机

、电视机 和其他电子产品成为可能。它也是世界上第一台 计算机的大脑。

真空管的缺点是体积大(导致真空泄露、易碎)、 功耗大(相对较多电能来运行),寿命短(元件老 化快)。主要缺点是易烧毁导致运行时间有限。当 时这些问题成为许多科学家寻找真空管替代品的 力,这个努力在 1947年12月23日 得以实现。也就 是第一只Ge合金 管的诞生。如图所示。

1.2 固态器件 Ge合金管的缺点是工作温度低,电性能差。 50年代随着硅平面制造工艺的出现,很快就出现 了用硅材料制造的晶体管。 由于硅材料的制造温度(熔点温度1415℃)和硅晶 体管的工作温度都优于锗(熔点温度937℃) ,加 之SiO2 的天然生成使得硅晶体管很快取代了Ge晶 体管。 固态技术不仅用于制造晶体管,还包括二极管、 电阻器和电容器。 分立器件:每个芯片只含有一个器件

1.3 集成电路 将多个电子元件以相互联系的状态集 成在一个硅衬底上或绝缘材料薄层片 子上,再用一个管壳将其封装起来, 构成一个完整的、具有一定功能的电 路或系统,被称为集成电路或简称IC。

最早的集成电路仅是几个晶体管、二极管、电容 器、电阻器组成,而且是在锗材料上实现的,是 由德州仪器公司的杰克·基尔比发明的。如图所 示。下面的图是用平面技术制造的晶体管。坪区 -V 输出

+V

可以大致以集成在一块芯片上的元件数划分集成 时代。电路集成没有集成 SSI MSI LSI

半导体产业周期1960年之前 20世纪60年代前期 20世纪60年代到70 年代前期 20世纪70年代前期 到70年代后期

每个芯片元件数1 2~50 50~5000 5000~100000

VLSI

20世纪70年代后期 到80年代前期20世纪90年代后期 至今

100000~1000000

ULSI

大于1000000

1.4 工艺和产品趋势 从一开始,半导体工业就呈现出在新工艺和器件 结构设计上的持续发展。工艺的提高导致了具有 更高集成度和可靠性集成电路的产生。 工艺的改进是指以更小尺寸来制造器件和电路, 并使之具有更高的密度,更多的数量和更高的可 靠性。 结构的改进是指新器件设计上的发明使电路的性 能更好,实现更佳的能耗控制和更高的可靠性。

器件的尺寸和数量是IC发展的两个共同目 标。 设计中的最小尺寸称为特征尺寸,将此定 义为制造复杂性水平的标准。 通常用微米来表示。 Gordon Moore在1964年预言IC的密度每隔 18个月将翻一番,------摩尔定律。

集成电路工业发展的另一些规律 建立一个芯片厂的造价也是每3年乘以4; 线条宽度每6年下降一半;芯片上每个器件 的价格每年下降30%~40%; 晶片直径的变化:6 …… 此处隐藏:489字,全部文档内容请下载后查看。喜欢就下载吧 ……

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