拟南芥基因的图位克隆技术(5)
发布时间:2021-06-05
发布时间:2021-06-05
拟南芥基因的图位克隆技术
在这个大约4 cM的遗传间隔内找到与突变更紧密连锁的分子标记,一般情况下能在突变两侧找到相距小于40 Kb的两个分子标记。一旦这样的两个分子标记被找到之后,就可以通过测序来找到突变基因。一种有效的方法是设计PCR引物来扩增覆盖这40 Kb的多个重叠的500 bp的片段。将这些片段测序后拼接起来以得到整个40 Kb的序列,然后将它与野生型植物(Col-0或者Ler)的序列进行比对,这就可以找到这个区域中的多个基因。从一系列侯选基因中鉴定基因是定位克隆技术的最后一个关键环节。现在最常用的方法是用含有目标基因的大片段克隆如BAC克隆或YAC克隆去筛选cDNA文库,并查询生物数据信息库,待找出侯选基因后,把这些侯选基因进行下列分析以确定目标基因:(1)精确定位法检查cDNA是否与目标基因共分离;(2)检查cDNA时空表达特点是否与表型一致;(3)测定cDNA序列,查询数据库,以了解该基因的功能;(4)筛选突变体文库,找出DNA序列上的变化及与功能的关系;(5)进行功能互补实验,通过转化突变体观察突变体表型是否恢复正常或发生预期的表型变化。功能互补实验是最直接、最终鉴定基因的方法。利用新兴的RNA干扰(RNAi)也可有效地确定目的基因。
3 存在的问题
图位克隆也有其自身的局限性,在某些情况下,就很难或者不能通过图位克隆技术来定位基因。
在分析自然发生的变异的时候,我们最有可能遇到的复杂情况是一个给定的性状是由不止一个的基因位点控制的。例如,在Kashmir-1(有抗性的)和Columbia(敏感的)株系之间的杂交实验中,我们发现粉状霉菌抗性基因至少涉及三个遗传位点,它们是以附加的方式起作用的(I.Wilson, C. Schiff, 和 S. Somerville,个人交流)。对这些抗性基因中的任何一个作精细定位都要求降低作图群体的遗传复杂性,例如通过创造只有一个位点保持多态性的重组近交系。在拟南芥的株系之间杂交时,很多种性状是由一个或多个遗传位点控制的,其中包括开花时间,种子大小,冬眠,生理节律,次生代谢以及表皮毛的密度(综述见
Alonso-Blanco 和 Koornneef,2000)。无论何时,当影响这些性状的自然或者诱导的突变被定位的时候,第二位点修饰成分会干扰这些分析。
表观(上位)遗传突变这个术语是描述一个基因在表达和功能上的可遗传改变,而不涉及DNA序列的改变(综述见Wolffe 和 Matzke,1999),这是图位克隆工程中又一个可能的复杂情况。已有文献很好地证明的是花发育基因SUPERMAN的后生clark kant等位基因
(Jacobson 和 Meyerowitz,1997)。这些等位基因是可遗传的,但它们不稳定有一个小的
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